2.噴膠法：利用高精密?chē)娮鞂⒕酆衔镆后w噴出，并形成一定尺寸的液滴，在空間中飛行后著陸在襯底表面形成半球面，再通過(guò)加熱溶劑揮發(fā)，或者紫外光照固化的方式形成球面微透鏡結(jié)構(gòu)，輔以高精度的機(jī)械機(jī)臺(tái)和噴嘴陣列以及控制系統(tǒng)，就可以獲得有效面積的微透鏡陣列結(jié)構(gòu)。這種加工方式的優(yōu)點(diǎn)是無(wú)需向上面兩種方法先制作模具后通過(guò)注塑或者壓印的方式進(jìn)行復(fù)制，它本身就有很高的生產(chǎn)效率，可以直接用于生產(chǎn)。但是其缺點(diǎn)就是需要適配合適的噴射聚合物材料，還需要匹配其材料與襯底的粘附性等問(wèn)題才能獲得可控矢高的微透鏡陣列。

3.熱回流法：熱回流是當(dāng)前比較流行的一種微透鏡陣列結(jié)構(gòu)的加工方法。其過(guò)程是利用光刻膠曝光顯影后形成圓柱或者特定形狀的柱子陣列結(jié)構(gòu)，通過(guò)加熱后讓光刻膠達(dá)到并超高其玻璃態(tài)轉(zhuǎn)變溫度后軟化，在其表面張力的作用下形成微透鏡陣列。再配合電鑄工藝實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)向模具的轉(zhuǎn)化，利用注塑或者納米壓印的方式進(jìn)行大批量的復(fù)制生產(chǎn)。

4.灰度曝光法：上述幾種方法幾乎有個(gè)共性，就是球面的形狀可控性比較差，實(shí)際使用中，非球面的微透鏡陣列需求越來(lái)越多，因?qū)@種需求，我們往往需要通過(guò)灰度光刻的方式來(lái)實(shí)現(xiàn)微透鏡陣列結(jié)構(gòu)，灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計(jì)算機(jī)控制激光束或者電子束劑量從而達(dá)到在某些區(qū)域曝透，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)。微透鏡陣列也是類(lèi)似，可以通過(guò)劑量分布的控制來(lái)控制其輪廓形態(tài)。

5.微納3D打印：這種方法與灰度光刻有點(diǎn)類(lèi)似，但是原理不同。魔技納米科技有限公司正是用的這種三維光刻技術(shù)制作微透鏡陣列。我們常見(jiàn)的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合，利用該技術(shù)我們理論上可以獲得想要的結(jié)構(gòu)，不僅僅是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)，該方法的優(yōu)勢(shì)是可以按照設(shè)計(jì)獲得想要的結(jié)構(gòu)，后續(xù)可以通過(guò)LIGA工藝獲得金屬模具，并通過(guò)納米壓印技術(shù)進(jìn)行復(fù)制。